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<概要>
对应基板 φ4、φ6英寸晶片
灰化分布 ±10%以内
排气时间 18秒以内到达10Pa
可选购项 Ar等离子清洗除静电器
用途，应用例：
1.各种晶片电子零件的去胶
2.后工序电镀前的表面改质
3.除去有机污染
4.树脂材料的表面改质
5.对应声表等极薄压电晶片
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光学薄膜形成设备 Genesis-AR 系列
连续式真空退火炉 SAF-X1201
超高性能光学薄膜用镀膜机 Sapio 1300 1550
连续式频率微调机 SFE-X2012
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